ASML作為光刻機制造商，荷蘭ASML公司主要面向晶圓制造廠，處于半導體產業(yè)鏈的上游，一般不會受到關注。但隨著芯片重要性提升，美方開始限制光刻機，ASML才會備受關注。

即使如此，ASML似乎和華為也沒有直接的關系，畢竟華為不直接制造芯片。然而，近期ASML的美國高管發(fā)文，內容中卻特別提到了華為，這究竟釋放了哪些信號呢？

首先，認為美方限制會出現(xiàn)嚴重后果。ASML雖然是全球光刻機霸主，但也非常受制于美方。其中一個重要原因，就是當時想要獲得EUV技術，答應了一些必要的條件。

EUV技術最初是由英特爾牽頭成立的EUV聯(lián)盟研發(fā)的，ASML為了率先獲得，于是答應從美采購不低于55%的配件，并且在美建廠工廠和研發(fā)中心，才獨享EUV技術。

后來，ASML就依照承諾在美建了最大的研發(fā)和制造基地，并且還陸續(xù)進行投資擴建。

這次發(fā)文的就是ASML美國高管，題目翻譯過來就是：ASML確認迫使中國重新發(fā)明輪子的風險。重新發(fā)明輪子，“Re-inventing the Wheel”是美國人的一種常用俗語。

輪子看似非常普通，但它被視作人類最古老、最重要的發(fā)明。在西方人類學史上，輪子的發(fā)明被認為是一次跨越。重新發(fā)明輪子，其實是費力不討好的一種幽默說法。

不過，ASML高管引用“重新發(fā)明輪子”，實際是在指出美方限制會帶來嚴重后果。

很明顯，這是在用輪子來比喻光刻機，輪子既然發(fā)明了，應該為人類服務，并不是限制使用。如果實施限制，人家自然就要重新造輪子，已經發(fā)明的東西更容易突破。

即使是光刻機也不例外，盡管它的制造非常復雜，但ASML總裁之前也說道，全球物理定律是一樣的，如果一味地實施限制，只會逼著中國盡快實現(xiàn)相關技術的突破。

雖然重新發(fā)明輪子是費力不討好，但如果被限制了，這無疑也是替代的最好辦法。

其次，華為正在大膽地探索多種途徑。ASML的美國高管在文中還特別提到了華為，他表示：隨著多種途徑的探索，包括華為在內都努力或多或少地復制ASML的做法。

即使它試圖避免侵犯已經存在的專利設計，但也有更大膽的途徑，例如轉向石墨烯。

這意思就是，在美方的限制不斷加碼的情況下，中國已經在芯片方面開始了多種途徑的探索，一方面走ASML的光刻機道路，另一方面是探索其他繞開光刻機的方法。

ASML作為光刻機行業(yè)如今的霸主，自然擁有相當多的專利，為了避免被超越，也建立了一定的專利壁壘。據(jù)相關統(tǒng)計顯示，ASML中我國就申請了3000多項光刻專利。

這些專利都是我們發(fā)展光刻機的壁壘，因為人家不授權使用，就需要想法繞開或自己突破。ASML高管提到或多或少地復制ASML的做法，意思就是在研發(fā)光刻機專利。

提到華為，就是因為華為也在研發(fā)光刻機方面的專利，之前曾經對外公布相關專利。

華為因為芯片禁令受到不小限制，自然會從各個方面尋找突破口，目前國內芯片產業(yè)鏈整體水平還不高，華為要徹底解決芯片問題，必須助力國內芯片產業(yè)鏈的打造。

除了目前的光刻機道路，我們還在探過繞開光刻機的其他芯片道路，比如ASML高管提到的石墨烯，用它替代當前的硅基芯片，性能提升功耗還低，確實是好的方向。

關鍵是石墨烯芯片還不用ASML的EUV光刻機，不過目前還不能實現(xiàn)大規(guī)模量產。

然而，ASML高管卻給出了良好愿景。他表示，在高端需求上突破的可能性越來越大，中國的發(fā)展速度比預期的要快，有可能以驚人的速度從實驗室概念到大規(guī)模生產。

ASML高管還表示，中國在兩方面都看到了好轉的跡象，包括光刻機極有可能在今年就會出現(xiàn)。一旦這些情況發(fā)生，那么連ASML今明兩年后的未來前景需要重新評估。

這恐怕也是ASML總裁最為擔心的，所以時隔6年才再次訪華，限制下也要加強合作！所以我們不必擔心美方限制越來越嚴，因為壓力越大，我們的突破速度也會越快。