格隆匯3月7日丨清溢光電近日在接待機(jī)構(gòu)投資者調(diào)研時(shí)表示，平板顯示掩膜版方面，公司陸續(xù)引進(jìn)新的光刻機(jī)設(shè)備，后續(xù)將進(jìn)一步提升產(chǎn)能。

半導(dǎo)體掩膜版業(yè)務(wù)方面，公司目前已擁有業(yè)內(nèi)先進(jìn)的激光光刻機(jī)，CD精度可達(dá)到130nm掩膜版的要求。佛山生產(chǎn)基地項(xiàng)目擬引入的光刻設(shè)備將不限于激光光刻機(jī)，也將適時(shí)考慮引入電子束光刻機(jī)。由于半導(dǎo)體光刻機(jī)的采購周期較長，公司技術(shù)方面正在逐步提升，公司將分步投資，具體請關(guān)注公司后續(xù)披露的相關(guān)公告。